Зарождение кристаллов в литиевосиликатных фоточувствительных стеклах
Автор:
В работе исследована кинетика гомогенного и гетерогенного зарождения кристаллов в литиевосиликатных фоточувствительных стеклах. Гомогенное зарождение реализовывалось в литиевосиликатных стеклах без фоточувствительных примесей, а также в стеклах с фоточувствительными примесями без ионизирующего облучения. Гетерогенное зарождение реализовывалось в стеклах с фоточувствительными примесями и ультрафиолетовым или рентгеновским облучением. Рентгеновское облучение не требует наличия в стекле сенсибилизирующих примесей диоксида церия. В качестве гетегоргенного зарождения рассмотрено автокаталитическое зарождение, реализующееся при смещении состава стекла в сторону увеличения содержания диоксида лития. Полученные характеристики зарождения позволяют выбрать оптимальные составы для производства фотоситаллов.
- 2011 г.
- 9783845412856
Материалы
Отзывы
Раз в месяц дарим подарки самому активному читателю.Оставляйте больше отзывов, и мы наградим вас!
Цитаты
Вы можете первыми опубликовать цитату