Физико-химические основы очистки металлов и полупроводниковых материалов

Изложены физико-химические основы важнейших процессов, применяемых для получения чистых металлов и полупроводниковых материалов (сорбция, экстракция, кристаллизационные методы очистки, дистилляция и ректификация, электрохимические методы, очистка металлов от газов и др.). Предназначена в качестве учебного пособия для студентов вузов, специализирующихся в области получения материалов электронной техники. Может быть полезна для научных работников и инженеров, занимающихся очисткой веществ.