Технология производства полупроводниковых приборов

В книге рассматриваются основные технологические процессы, используемые в производстве полупроводниковых приборов и полу­проводниковых интегральных схем. Наибольшее внимание уделено процессам вплавления-рекристаллизации и диффузии, в результате проведения которых образуется электронно-дырочный переход. Пленарной технологии, которая в последнее время стала ши­роко применяться как для изготовления различных типов крем­ниевых диодов и транзисторов, так и полупроводниковых инте­гральных схем, посвящена вторая часть книги. Здесь основное внимание уделено фотолитографии и получению пассивирующих слоев двуокиси кремния на кремнии, а также рассмотрены прин­ципы построения интегральных схем на основе полевых транзисто­ров типа металл - окисел - полупроводник. Книга рассчитана на инженерно-технических работников, за­нимающихся конструированием и производством полупроводнико­вых приборов и интегральных схем. Она будет полезна также сту­дентам высших учебных заведений,...