Воздействие низкотемпературной плазмы и электромагнитного излучения на материалы

Рассмотрены основные физические и физико-химические процессы на поверхностях материалов термоядерных установок (на основе магнитного удержания плазмы) и космических аппаратов, подвергающихся воздействию низкотемпературной плазмы и электромагнитного излучения. Изложены методы и результаты исследования устойчивости ряда материалов под действием этих факторов. Проанализированы эффекты распыления, дугообраэования, плазмо- и фототравления, изменения оптического поглощения и люминесценции, а также зарядовые явления на поверхности и в объеме электретных материалов. Предложены феноменологические модели для прогнозирования значения коэффициента оптического поглощения гетерогенных материалов при воздействии излучений в вакууме. Для научных работников в области физики плазмоповерхностных взаимодействий и радиационного материаловедения.